正确答案: B

剂量

题目：离子注入层的杂质浓度主要取决于离子注入的（）。

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[单选题]腐蚀二氧化硅的水溶液一般是用（）

D、氢氟酸

[单选题]恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为什么分布？（）

B、余误差函数

[单选题]二氧化硅在扩散时能对杂质起掩蔽作用进行（）扩散。

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