正确答案: C

去离子水

题目：在半导体器件制造中，对清洗用水的纯度有比较高的要求，要用经过纯化的（）作为清洁用水。

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学习资料的答案和解析：

[单选题]采用热氧化方法制备的二氧化硅从结构上看是（）的。

非结晶形态

[单选题]分析器是一种（）分选器。

离子

[多选题]下列组合中哪一种基本上用于刻蚀前者的干刻蚀法大都可以用来刻蚀后者（）。

二氧化硅氮化硅

铝硅

[多选题]为了满足半导体器件对金属材料的低电阻连接以及可靠的要求，金属材料应该满足（）。

低电阻率

易与p或n型硅形成欧姆接触

易于光刻

便于进行键合