正确答案: B

深度

题目：在实际工作中，常常需要知道离子注入层内损伤量按（）的分布情况。

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学习资料的答案和解析：

[单选题]通常热扩散分为两个大步骤，其中第一个步骤是（）。

预淀积

[单选题]单晶硅刻蚀一般采用（）做掩蔽层，以氟化氢为主要的刻蚀剂，氧气为侧壁钝化作用的媒介物。

二氧化硅

[单选题]用高能粒子从某种物质的表面撞击出原子的物理过程叫（）。

溅射

[多选题]净化室将硅片制造设备与外部环境隔离，免受诸如（）的沾污。

颗粒

金属

有机分子

静电释放（ESD）