正确答案: ABCE

产生一个离子并导向靶 被轰击的原子向硅晶片运动 离子把靶上的原子轰出来 原子在硅晶片表面凝结

题目：一般来说，溅射镀膜的过程包括（）这几步。

查看原题 查看所有试题

学习资料的答案和解析：

[单选题]半导体硅常用的施主杂质是（）。

磷

[单选题]化学气相沉积的英文名称的缩写为（）。

CVD