正确答案: C

光刻胶

题目：刻蚀是把进行光刻前所沉积的薄膜厚度约在数千到数百A之间中没有被（）覆盖及保护的部分，以化学作用或是物理作用的方式加以去除，以完成转移掩膜图案到薄膜上面的目的。

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学习资料的答案和解析：

[单选题]在空位扩散中，如果迁移到空位的原子是基质原子，扩散属于（）。

自扩散

[多选题]铜与铝相比较，其性质有（）。

铜的电阻率比铝小

铝的抗电迁移能力较弱

铜可以在低温下淀积