正确答案: C

题目:二氧化硅薄膜的折射率是表征其()学性质的重要参数。

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  • [单选题]单晶硅刻蚀一般采用()做掩蔽层,以氟化氢为主要的刻蚀剂,氧气为侧壁钝化作用的媒介物。
  • 二氧化硅


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