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正确答案:
C
溅射
题目:()方法是大规模集成电路生产中用来沉积不同金属的应用最为广泛的技术。
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学习资料的答案和解析:
[单选题]在确定扩散率的测结深实验中,结深的测量是采用HF和()的混和液对磨斜角进行化学染色的。
HNO3
[多选题]半导体芯片生产中,离子注入主要是用来()。
改变导电类型
改变材料性质
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下列可作为磷扩散源的是()。
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采用热氧化方法制备的二氧化硅从结构上看是()的。
对于浓度覆盖很宽的杂质原子,可以采用()方法引入到硅片中。
晶硅栅极刻蚀最大的挑战就是对二氧化硅的高选择性。超薄的()使
人类的职业道德真正形成于()。
下列物质的等离子体适合用以刻蚀铝合金中硅的有()。
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早期,研究离子注入技术是用()来进行的。
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