[单选题]说明构成每个单元所需的基本门和基本单元的集成电路设计过程叫（）：

正确答案 ：A

A、逻辑设计

[单选题]腐蚀二氧化硅的水溶液一般是用（）

正确答案 ：D

D、氢氟酸

[单选题]离子注入层的杂质浓度主要取决于离子注入的（）。

正确答案 ：B

剂量

[单选题]Ⅰ号液是（）过氧化氢清洗液.

正确答案 ：A

碱性

[多选题]按蒸发源加热方法的不同，真空蒸发工艺可分为：（）蒸发、（）蒸发、离子束蒸发等。

正确答案 ：AB

电阻加热

电子束

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