正确答案: ABCDE

高分辨率 高灵敏度 精密的套刻对准 大尺寸 低缺陷

题目：超大规模集成电路需要光刻工艺具备的要求有（）。

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[单选题]dry vacuum pump的意思是（）。

干式真空泵

[单选题]采用热氧化方法制备的二氧化硅从结构上看是（）的。

非结晶形态

[单选题]采用热氧化方法制备的二氧化硅从结构上看是（）的。

非结晶形态

[单选题]降低靶的温度，有利于非晶层的形成，所以临界注入量随之（）。

减小

[单选题]一般来说，我们用一定量的（）使阳树脂再生。

盐酸