正确答案: ABCD

砷化氢 二硼化氢 四氟化硅 三氟化磷

题目：离子注入的主要气体源中，剧毒的有（）。

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[单选题]表示杂质在硅-二氧化硅界面处重新分布的性质和程度，习惯上常用（）。

分凝系数

[多选题]下列哪些因素会影响临界注入量的大小：（）。

注入离子的质量

靶的种类

注入温度

注入速度