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[多选题]()的方法有利于减少热预算。
正确答案 :
AE
高压氧化
等离子增强氧化
[多选题]下列组合中哪一种基本上用于刻蚀前者的干刻蚀法大都可以用来刻蚀后者()。
正确答案 :
AE
二氧化硅氮化硅
铝硅
[多选题]薄膜沉积的机构包括那些步骤()。
正确答案 :
ABCDE
形成晶核
晶粒成长
晶粒凝结
缝道填补
沉积膜成长
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集成电路制造工艺员(三级)题库题库下载排行
下列可作为磷扩散源的是()。
集成电路制造工艺员(三级)题库2022历年考试试题及答案(4P)
采用热氧化方法制备的二氧化硅从结构上看是()的。
对于浓度覆盖很宽的杂质原子,可以采用()方法引入到硅片中。
晶硅栅极刻蚀最大的挑战就是对二氧化硅的高选择性。超薄的()使
人类的职业道德真正形成于()。
下列物质的等离子体适合用以刻蚀铝合金中硅的有()。
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集成电路制造工艺员(三级)题库2022历年考试试题(8J)
早期,研究离子注入技术是用()来进行的。
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