正确答案: D

电荷积分仪

题目:一般用()测量注入的剂量。

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学习资料的答案和解析:

  • [单选题]采用热氧化方法制备的二氧化硅从结构上看是()的。
  • 非结晶形态


  • [单选题]离子源腔体中的气体放电形成()而引出正离子的。
  • 等离子体


  • [单选题]由于干法刻蚀中是同时对晶片上的光刻胶及裸露出来的薄膜进行刻蚀的,所以其()就比以化学反应的方式进行刻蚀的湿法还来得差。
  • 选择性


  • [多选题]下列组合中哪一种基本上用于刻蚀前者的干刻蚀法大都可以用来刻蚀后者()。
  • 二氧化硅氮化硅

    铝硅


  • [多选题]()专指薄膜形成的过程中,并不消耗晶片或底材的材质。
  • 蒸发

    薄膜沉积

    溅射


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