正确答案: C

加速器

题目：离子源产生的离子在（）的加速电场作用下得到加速。

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学习资料的答案和解析：

[单选题]单晶硅刻蚀一般采用（）做掩蔽层，以氟化氢为主要的刻蚀剂，氧气为侧壁钝化作用的媒介物。

二氧化硅

[多选题]为了满足半导体器件对金属材料的低电阻连接以及可靠的要求，金属材料应该满足（）。

低电阻率

易与p或n型硅形成欧姆接触

易于光刻

便于进行键合

[多选题]溅射的方法非常多其中包括（）。

A.直流溅射B.交流溅射C.反应溅射D.二级溅射E.三级溅射