正确答案: ABCDE

均匀性 表面平整度 自由应力 纯净度 电容

题目：在半导体工艺中，淀积的薄膜层应满足的参数包含有（）。

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[单选题]奉献社会的实质是（）。

不要回报的付出

[单选题]当二氧化硅膜很薄时，膜厚与时间（）。

t成正比

[多选题]离子注入的主要气体源中，易燃、易爆的有（）。

砷化氢

二硼化氢

硅烷

[单选题]在新一代的CMP中，有使用（）磨料在金属表面上形成软质皮膜并加以去除的趋势。

二氧化锰

[单选题]阳树脂用盐酸做再生液，浓度为（）溶液可用原水配制。

10%