• [多选题]干氧氧化法具备以下一系列的优点()。
  • 正确答案 :ABCDE
  • 生长的二氧化硅薄膜均匀性好

    生长的二氧化硅干燥

    生长的二氧化硅结构致密

    生长的二氧化硅是很理想的钝化膜

    生长的二氧化硅掩蔽能力强


  • [单选题]He,OH,Na等元素在900℃下,在二氧化硅中的扩散率大于10-13cm2/s,这些元素称为()。
  • 正确答案 :B
  • 快速扩散杂质


  • [单选题]损伤的分布与注入离子在在靶内的()的分布密切相关。
  • 正确答案 :A
  • 能量淀积


  • [单选题]()是通过把被蒸物体加热,利用被蒸物在高温时的饱和蒸汽压来进行薄膜沉积的。
  • 正确答案 :A
  • 蒸镀


  • [多选题]净化室将硅片制造设备与外部环境隔离,免受诸如()的沾污。
  • 正确答案 :ABCD
  • 颗粒

    金属

    有机分子

    静电释放(ESD)


  • [单选题]悬浮在空气中的颗粒称为()。
  • 正确答案 :D
  • 浮质


  • 查看原题 查看所有试题


    必典考试
    推荐科目: 集成电路制造工艺员(三级)题库
    @2019-2025 必典考网 www.51bdks.net 蜀ICP备2021000628号 川公网安备 51012202001360号