正确答案: D

PN结

题目：扩散工艺现在广泛应用于制作（）。

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学习资料的答案和解析：

[单选题]奉献社会的实质是（）。

不要回报的付出

[单选题]在热扩散工艺中的预淀积步骤中，硼在950～1100℃的条件下，扩散时间大约（）为宜。

10～40min

[单选题]光刻的主要工艺流程按照操作顺序是（）。

涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶

[多选题]关于正胶和负胶的特点，下列说法正确的是（）。

正胶在显影时不会发生膨胀，因此分辨率高于负胶

负胶在显影时不会发生膨胀，因此分辨率不会降低

负胶在显影时会发生膨胀，导致了分辨率的降低

[单选题]晶体中，每个原子在晶格中有一定的平衡位置，原子在此位置时其势能为（）。

极小值