[多选题]解决氧化层中的钠离子沾污的方法有（）。

正确答案 ：ABCDE

加强工艺操作

加强人体和环境卫生

使用高纯化学试剂、高纯水和超净设备

采用HCl氧化工艺

硅片清洗后，要充分烘干，表面无水迹

[单选题]一般用（）测量注入的剂量。

正确答案 ：D

电荷积分仪

[多选题]（）专指薄膜形成的过程中，并不消耗晶片或底材的材质。

正确答案 ：BCD

蒸发

薄膜沉积

溅射

[单选题]检验水中是否有盐酸，可用（）溶液滴入水中，如果出现白色沉淀，就表示水中有盐酸。

正确答案 ：C

硝酸银

[单选题]沾污引起的电学缺陷引起（），硅片上的管芯报废以及很高的芯片制造成本。

正确答案 ：C

成品率损失

[多选题]净化室里废气收集管系统分为两类，分别是（）。

正确答案 ：AC

一般排气系统

制程排气系统

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