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正确答案:
B
离子源
题目:离子注入装置的主要部件有()、分析器、加速聚焦系统等。
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学习资料的答案和解析:
[多选题]解决氧化层中的钠离子沾污的方法有()。
加强工艺操作
加强人体和环境卫生
使用高纯化学试剂、高纯水和超净设备
采用HCl氧化工艺
硅片清洗后,要充分烘干,表面无水迹
[多选题]树脂使用过程中需保持一定温度,阳树脂和阴树脂分别不能高于()度,使用温度不能过低,低于0度会使树脂冻裂。
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下列可作为磷扩散源的是()。
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采用热氧化方法制备的二氧化硅从结构上看是()的。
对于浓度覆盖很宽的杂质原子,可以采用()方法引入到硅片中。
晶硅栅极刻蚀最大的挑战就是对二氧化硅的高选择性。超薄的()使
人类的职业道德真正形成于()。
下列物质的等离子体适合用以刻蚀铝合金中硅的有()。
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早期,研究离子注入技术是用()来进行的。
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