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[单选题]化合物半导体砷化镓常用的施主杂质是()。
正确答案 :
A
锡
[单选题]硅烷的分子式是()。
正确答案 :
B
SiH4
[单选题]分析器是一种()分选器。
正确答案 :
C
离子
[多选题]以()等两层材料所组合而成的导电层便称为Polycide。
正确答案 :
BC
多晶硅
硅化金属
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集成电路制造工艺员(三级)题库题库下载排行
下列可作为磷扩散源的是()。
集成电路制造工艺员(三级)题库2022历年考试试题及答案(4P)
采用热氧化方法制备的二氧化硅从结构上看是()的。
对于浓度覆盖很宽的杂质原子,可以采用()方法引入到硅片中。
晶硅栅极刻蚀最大的挑战就是对二氧化硅的高选择性。超薄的()使
人类的职业道德真正形成于()。
下列物质的等离子体适合用以刻蚀铝合金中硅的有()。
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集成电路制造工艺员(三级)题库2022历年考试试题(8J)
早期,研究离子注入技术是用()来进行的。
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