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正确答案:
ABCDE
入射离子的能量 入射离子的质量 入射离子的原子序数 靶原子的质量、原子序数、原子密度 注入离子的总剂量
题目:对于非晶靶,离子注入的射程分布取决于()。
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学习资料的答案和解析:
[单选题]钠、钾等大离子在二氧化硅结构中是()杂质。
间隙式
[多选题]二氧化硅薄膜厚度的测量方法有()。
比色法
双光干涉法
椭圆偏振光法
腐蚀法
电容-电压法
[单选题]()主要是以化学反应方式来进行薄膜沉积的。
CVD
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下列可作为磷扩散源的是()。
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采用热氧化方法制备的二氧化硅从结构上看是()的。
对于浓度覆盖很宽的杂质原子,可以采用()方法引入到硅片中。
晶硅栅极刻蚀最大的挑战就是对二氧化硅的高选择性。超薄的()使
人类的职业道德真正形成于()。
下列物质的等离子体适合用以刻蚀铝合金中硅的有()。
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早期,研究离子注入技术是用()来进行的。
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