正确答案: B

选择性

题目:由于干法刻蚀中是同时对晶片上的光刻胶及裸露出来的薄膜进行刻蚀的,所以其()就比以化学反应的方式进行刻蚀的湿法还来得差。

查看原题 查看所有试题

学习资料的答案和解析:

  • [单选题]dry vacuum pump的意思是()。
  • 干式真空泵


  • [单选题]如果固体中的原子排列情况是紊乱的,就称之为()。
  • 非晶靶


  • [单选题]化学气相沉积的英文名称的缩写为()。
  • CVD


  • [多选题]晶片表面上的粒子是通过()到达晶片的表面。
  • 粒子扩散

    从气体源通过强迫性的对流传送

    化学反应

    被表面吸附


  • 必典考试
    推荐下载科目: 集成电路制造工艺员(三级)题库
    @2019-2025 必典考网 www.51bdks.net 蜀ICP备2021000628号 川公网安备 51012202001360号