正确答案: D

光刻

题目：在集成电路工艺中，光复制图形和材料刻蚀相结合的工艺技术是（）。

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学习资料的答案和解析：

[单选题]恒定表面浓度的条件下，在整个扩散期间，（）保持恒定表面浓度。

源蒸气

[单选题]硅烷的分子式是（）。

SiH4

[单选题]在实际工作中，常常需要知道离子注入层内损伤量按（）的分布情况。

深度

[多选题]直流二极管辉光放电系统是由（）构成。

抽真空后再充入某种低压气体的玻璃管

两个电极