正确答案: E

取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

题目：一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）。

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学习资料的答案和解析：

[单选题]呼吸性碱中毒见于（）。

颅脑损伤

[单选题]牙菌斑是（）。

存在于口内硬组织表面软而未矿化的微生物膜

[单选题]适合做丝圈保持器的情况是（）。

D|D早失，E|E无龋