正确答案: BCE

多层金属的介质层 多晶硅与金属之间的绝缘层 晶圆片上器件之间的隔离

题目：在半导体工艺中，与氮化硅比较，二氧化硅更适合应用在（）。

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学习资料的答案和解析：

[多选题]二氧化硅层中的钠离子可能来源于（）。

玻璃器皿

高温器材

人体沾污

化学试剂

去离子水

[单选题]早期，研究离子注入技术是用（）来进行的。

重离子加速器

[多选题]属于铝的性质有（）。

电阻低

对硅氧化物有很好的黏合性

有很高的纯度

易于光刻

[单选题]不可以对SiO2进行干法刻蚀所使用的气体是（）。