正确答案: C

CVD

题目：化学气相沉积的英文名称的缩写为（）。

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[单选题]早期，研究离子注入技术是用（）来进行的。

重离子加速器

[单选题]在生产过程中必须使用（）来完成浅沟槽隔离STI。

单晶硅刻蚀

[单选题]薄膜沉积的机构，依发生的顺序，可以分为这几个步骤。其中不包括（）。

晶粒自旋