[单选题]位错的形成原因是（）。

正确答案 ：C

位错就是由范性形变造成的

[单选题]二氧化硅在扩散时能对杂质起掩蔽作用进行（）扩散。

正确答案 ：C

选择

[单选题]介质隔离是以绝缘性能良好的电介质作为“隔离墙”来实现电路中各元器件间彼此电绝缘的一种隔离方法。常用的电介质是（）层。

正确答案 ：C

二氧化硅

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