• [单选题]光刻工艺是利用感光胶感光后抗腐蚀的特性在半导体晶片表面的掩膜层上的工艺()
  • 正确答案 :A
  • 刻制图形


  • [多选题]按蒸发源加热方法的不同,真空蒸发工艺可分为:()蒸发、()蒸发、离子束蒸发等。
  • 正确答案 :AB
  • 电阻加热

    电子束


  • 查看原题 查看所有试题


    必典考试
    推荐科目: 半导体芯片制造中级工题库 半导体制造技术题库
    @2019-2025 必典考网 www.51bdks.net 蜀ICP备2021000628号 川公网安备 51012202001360号