正确答案: A

晶核

题目：（）是因为吸附原子在晶片表面上彼此碰撞并结合所形成的。

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[单选题]用电容－电压技术来测量扩散剖面分布是用了（）的原理。

pn结理论

[单选题]在集成电路工艺中，光复制图形和材料刻蚀相结合的工艺技术是（）。

光刻

[单选题]刻蚀是把进行光刻前所沉积的薄膜厚度约在数千到数百A之间中没有被（）覆盖及保护的部分，以化学作用或是物理作用的方式加以去除，以完成转移掩膜图案到薄膜上面的目的。

光刻胶

[单选题]铜与氯形成的化合物挥发能力不好，因而铜的刻蚀无法以化学反应来进行，而必须施以（）。

溅射刻蚀

[多选题]按加热源的不同，可以分成（）几种不同类型的蒸发。

真空蒸发

离子束蒸发

电子束蒸发