正确答案: ABCE

投影式同接触式相比，掩模版的利用率比较高 接触式的分辨率优于接近式 接近式的分辨率受到衍射的影响 投影式曝光是目前采用的主要曝光系统

题目：下列有关曝光系统的说法正确的是（）。

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[单选题]大硅片上生长的（）的不均匀和各个部位刻蚀速率的不均匀会导致刻蚀图形转移的不均匀性。

薄膜厚度

[多选题]下列组合中哪一种基本上用于刻蚀前者的干刻蚀法大都可以用来刻蚀后者（）。

二氧化硅氮化硅

铝硅