正确答案: D

HNO3

题目：在确定扩散率的测结深实验中，结深的测量是采用HF和（）的混和液对磨斜角进行化学染色的。

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[单选题]钠、钾等大离子在二氧化硅结构中是（）杂质。

间隙式

[单选题]化合物半导体砷化镓常用的施主杂质是（）。

锡

[多选题]下列有关曝光系统的说法正确的是（）。

投影式同接触式相比，掩模版的利用率比较高

接触式的分辨率优于接近式

接近式的分辨率受到衍射的影响

投影式曝光是目前采用的主要曝光系统

[单选题]一般用（）测量注入的剂量。

电荷积分仪

[单选题]刻蚀要求在整个晶圆上有一个均匀的刻蚀速率，（）是在晶圆上由测量刻蚀过程前后特定点的厚度，并计算这些点的刻蚀速率而得到的。

均匀性

[单选题]用真空蒸发与溅射法在硅片或二氧化硅膜上涂敷金属材料，是形成电极的（）。

首要步骤

[单选题]通常选熔断器熔断电流为电路额定电流的（）。

1.3～2.1倍