正确答案: ABCDE

电路图形结构的凹凸 尺寸大小 位置分布 高度 密集程度

题目:在对层间绝缘膜进行CMP时,层间绝缘膜的表面会随下列那些因素产生变化()。

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学习资料的答案和解析:

  • [单选题]光刻的主要工艺流程按照操作顺序是()。
  • 涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶


  • [单选题]()是指每个入射离子溅射出的靶原子数。
  • 溅射率


  • [单选题]我们可以从测量去离子水的酸度来判别阴阳树脂谁先失效,阴树脂先失效,水呈()性。

  • [多选题]树脂使用过程中需保持一定温度,阳树脂和阴树脂分别不能高于()度,使用温度不能过低,低于0度会使树脂冻裂。
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