正确答案: D

PVD

题目:()是以物理的方法来进行薄膜沉积的一种技术。

查看原题 查看所有试题

学习资料的答案和解析:

必典考试
推荐下载科目: 集成电路制造工艺员(三级)题库
@2019-2025 必典考网 www.51bdks.net 蜀ICP备2021000628号 川公网安备 51012202001360号