正确答案: B

间隙式

题目:钠、钾等大离子在二氧化硅结构中是()杂质。

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学习资料的答案和解析:

  • [多选题]为了满足半导体器件对金属材料的低电阻连接以及可靠的要求,金属材料应该满足()。
  • 低电阻率

    易与p或n型硅形成欧姆接触

    易于光刻

    便于进行键合


  • [单选题]用高能粒子从某种物质的表面撞击出原子的物理过程叫()。
  • 溅射


  • [多选题]沾污是指半导体制造过程中引入半导体硅片的任何危害微芯片()的不希望有的物质。
  • 成品率

    电学性能


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