正确答案: AC
一般排气系统 制程排气系统
题目:净化室里废气收集管系统分为两类,分别是()。
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学习资料的答案和解析:
[单选题]在深紫外曝光中,需要使用()光刻胶。
DQN
[多选题]涂胶之前,要保证晶片的质量以及涂胶工序的顺利进行,下列操作正确的是()。
进行去水烘烤以保证晶片干燥
在晶片表面涂上增粘剂以保证晶片黏附性好
刚刚处理好的晶片应立即涂胶
贮存的晶片在涂胶前必须再次清洗及干燥
[单选题]铜与氯形成的化合物挥发能力不好,因而铜的刻蚀无法以化学反应来进行,而必须施以()。
溅射刻蚀
[单选题]()是以物理的方法来进行薄膜沉积的一种技术。
PVD