正确答案: A

二氧化硅

题目：多晶硅栅极刻蚀最大的挑战就是对（）的高选择性。超薄的栅氧化层使得在刻蚀多晶硅电极时对栅氧化层的刻蚀要尽可能的小。

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[多选题]光刻胶主要由（）等不同材料混合而成的。

树脂

感光剂

溶剂

[多选题]按加热源的不同，可以分成（）几种不同类型的蒸发。

真空蒸发

离子束蒸发

电子束蒸发