正确答案: A

刻蚀速率

题目：（）是测量在刻蚀过程中物质被移除的速率有多快的一种参数。

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[单选题]在靶片前方设一抑制栅，作用是将（）抑制回去，从而保证测量的准确性。

二次电子

[单选题]（）就是用功率密度很高的激光束照射半导体表面，使其中离子注入层在极短的时间内达到高温，消除损伤。

激光退火