[单选题]在集成电路工艺中，光复制图形和材料刻蚀相结合的工艺技术是（）。

正确答案 ：D

光刻

[单选题]晶体中，每个原子在晶格中有一定的平衡位置，原子在此位置时其势能为（）。

正确答案 ：B

极小值

[单选题]Torr是指（）的单位。

正确答案 ：A

真空度

[单选题]为了解决中性束对注入均匀性的影响，可在系统中设有（），使离子束偏转后再达到靶室。

正确答案 ：C

静电偏转电极

[单选题]在IC芯片生长中浅沟槽隔离技术STI逐渐取代了局部氧化LOCOS所制成的（）而成为相邻电子元件的绝缘体

正确答案 ：D

场氧化层

[单选题]决定吸附原子彼此间能否形成一个稳定的核团，以便于进行凝结的主要因素主宰于所形成的核团是否（）而定。

正确答案 ：B

稳定

[单选题]由于离子交换树脂反应，它既可以去除水中杂质离子，又可以将失效树脂进行处理，恢复交换能力，所以称为（）反应。

正确答案 ：D

可逆

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