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[单选题]二氧化硅生长过程中,当分凝系数小于1时,会使二氧化硅-硅界面处硅一侧的杂质浓度()。
正确答案 :
A
降低
[多选题]一般来说,溅射镀膜的过程包括()这几步。
正确答案 :
ABCE
产生一个离子并导向靶
被轰击的原子向硅晶片运动
离子把靶上的原子轰出来
原子在硅晶片表面凝结
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集成电路制造工艺员(三级)题库题库下载排行
下列可作为磷扩散源的是()。
集成电路制造工艺员(三级)题库2022历年考试试题及答案(4P)
采用热氧化方法制备的二氧化硅从结构上看是()的。
对于浓度覆盖很宽的杂质原子,可以采用()方法引入到硅片中。
晶硅栅极刻蚀最大的挑战就是对二氧化硅的高选择性。超薄的()使
人类的职业道德真正形成于()。
下列物质的等离子体适合用以刻蚀铝合金中硅的有()。
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早期,研究离子注入技术是用()来进行的。
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