正确答案: ABD

砷化氢 二硼化氢 硅烷

题目:离子注入的主要气体源中,易燃、易爆的有()。

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学习资料的答案和解析:

  • [多选题]干氧氧化法具备以下一系列的优点()。
  • 生长的二氧化硅薄膜均匀性好

    生长的二氧化硅干燥

    生长的二氧化硅结构致密

    生长的二氧化硅是很理想的钝化膜

    生长的二氧化硅掩蔽能力强


  • [单选题]在确定扩散率的实验中,扩散层电阻的测量可以用()测量。
  • 四探针技术


  • [单选题]Torr是指()的单位。
  • 真空度


  • [单选题]()是通过把被蒸物体加热,利用被蒸物在高温时的饱和蒸汽压来进行薄膜沉积的。
  • 蒸镀


  • [单选题]用真空蒸发与溅射法在硅片或二氧化硅膜上涂敷金属材料,是形成电极的()。
  • 首要步骤


  • [单选题]由于离子交换树脂反应,它既可以去除水中杂质离子,又可以将失效树脂进行处理,恢复交换能力,所以称为()反应。
  • 可逆


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