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[单选题]采用热氧化方法制备的二氧化硅从结构上看是()的。
正确答案 :
B
非结晶形态
[多选题]按曝光的光源分类,曝光可以分为()。
正确答案 :
ABD
光学曝光
离子束曝光
电子束曝光
[多选题]哪种方法可以增加缺陷的积累率而降低临界注入量:()。
正确答案 :
ADE
低温注入
分子注入
双注入
[多选题]直流二极管辉光放电系统是由()构成。
正确答案 :
BC
抽真空后再充入某种低压气体的玻璃管
两个电极
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集成电路制造工艺员(三级)题库题库下载排行
下列可作为磷扩散源的是()。
集成电路制造工艺员(三级)题库2022历年考试试题及答案(4P)
采用热氧化方法制备的二氧化硅从结构上看是()的。
对于浓度覆盖很宽的杂质原子,可以采用()方法引入到硅片中。
晶硅栅极刻蚀最大的挑战就是对二氧化硅的高选择性。超薄的()使
人类的职业道德真正形成于()。
下列物质的等离子体适合用以刻蚀铝合金中硅的有()。
集成电路制造工艺员题库2022集成电路制造工艺员(三级)题库考试试题下载(4Z)
集成电路制造工艺员(三级)题库2022历年考试试题(8J)
早期,研究离子注入技术是用()来进行的。
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