• [单选题]一般分析扩散系数,考虑两种条件,即恒定表面浓度条件和()。
  • 正确答案 :A
  • 恒定总掺杂剂量


  • [多选题]在半导体工艺中,与氮化硅比较,二氧化硅更适合应用在()。
  • 正确答案 :BCE
  • 多层金属的介质层

    多晶硅与金属之间的绝缘层

    晶圆片上器件之间的隔离


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    推荐科目: 集成电路制造工艺员(三级)题库
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