正确答案: A

中1／3

题目：冠内附着体阴性结构应放置在基牙基底冠远中或近中邻面，颊舌向（）

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[单选题]上颌骨缺损修复需要取鼻底倒凹印模时多采用（）

注射印模法

[单选题]附着体义齿设计中采用两个或两个以上的冠内附着体时，必须注意以下哪项内容，如略有偏差将阻碍义齿的就位，导致修复失败（）

必须使各冠内附着体栓道轴壁之间有共同就位道

[单选题]制作下前牙塑料联冠斜面导板矫治器，斜面导板的角度与下切牙长轴的交角应（）

<45°

[单选题]直接法制作蜡铸型最好用于（）

单面嵌体

[单选题]患者，女，50岁，左下8765右下5678缺失，余牙正常，口底至舌侧牙龈距离为10mm，设计铸造可摘局部义齿修复。左下4右下4设计RPI卡环组。