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正确答案:
D
2
题目:ESD产生()种不同的静电总类。
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学习资料的答案和解析:
[单选题]半导体硅常用的受主杂质是()。
硼
[多选题]电荷积分仪的基本单元包括()。
I-V转换
V-f转换
十进制计数电路
控制电路
[单选题]在各种离子源常用的放电方式中,EOS是指有()。
电子振荡放电
[多选题]铜与铝相比较,其性质有()。
铜的电阻率比铝小
铝的抗电迁移能力较弱
铜可以在低温下淀积
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下列可作为磷扩散源的是()。
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采用热氧化方法制备的二氧化硅从结构上看是()的。
对于浓度覆盖很宽的杂质原子,可以采用()方法引入到硅片中。
晶硅栅极刻蚀最大的挑战就是对二氧化硅的高选择性。超薄的()使
人类的职业道德真正形成于()。
下列物质的等离子体适合用以刻蚀铝合金中硅的有()。
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早期,研究离子注入技术是用()来进行的。
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