• [单选题]反应离子腐蚀是()。
  • 正确答案 :C
  • 物理的溅射刻蚀和化学的反应刻蚀相结合


  • [单选题]pn结的击穿电压和反向漏电流既是晶体管的重要直流参数,也是评价()的重要标志。
  • 正确答案 :A
  • 扩散层质量


  • 查看原题 查看所有试题


    必典考试
    推荐科目: 半导体芯片制造高级工题库
    @2019-2025 必典考网 www.51bdks.net 蜀ICP备2021000628号 川公网安备 51012202001360号