• [单选题]在热扩散工艺中的预淀积步骤中,磷的扩散温度为()。
  • 正确答案 :B
  • 900~1050℃


  • [多选题]离子注入的主要气体源中,易燃、易爆的有()。
  • 正确答案 :ABD
  • 砷化氢

    二硼化氢

    硅烷


  • [多选题]铜与铝相比较,其性质有()。
  • 正确答案 :ACE
  • 铜的电阻率比铝小

    铝的抗电迁移能力较弱

    铜可以在低温下淀积


  • [多选题]下列物质的等离子体适合用以刻蚀铝合金中硅的有()。
  • 正确答案 :BC
  • BCl3

    Cl2


  • [单选题]请在下列选项中选出硅化金属的英文简称:()。
  • 正确答案 :

  • [单选题]将具有交换能力的阳树脂和阴树脂按一定比例混合后,装在聚氯乙稀或有机玻璃做的圆柱形交换柱内,自来水()通过交换柱就能称为高纯度去离子水。
  • 正确答案 :A
  • 自上而下


  • [单选题]为了保证保护装置能可靠地动作,27.5A的接地电流只能保证断开动作电流不超过多少的继电保护装置。()
  • 正确答案 :A
  • 18.3A


  • 查看原题 查看所有试题


    必典考试
    推荐科目: 集成电路制造工艺员(三级)题库
    @2019-2025 必典考网 www.51bdks.net 蜀ICP备2021000628号 川公网安备 51012202001360号