正确答案: A

化学增强

题目:在深紫外曝光中,需要使用CA光刻胶,CA的含义是()。

查看原题 查看所有试题

学习资料的答案和解析:

  • [多选题]二氧化硅层中的钠离子可能来源于()。
  • 玻璃器皿

    高温器材

    人体沾污

    化学试剂

    去离子水


  • [单选题]在VLSI工艺中,常用的前烘方法是()。
  • 真空热平板传导法


  • [单选题]决定吸附原子彼此间能否形成一个稳定的核团,以便于进行凝结的主要因素主宰于所形成的核团是否()而定。
  • 稳定


  • 必典考试
    推荐下载科目: 集成电路制造工艺员(三级)题库
    @2019-2025 必典考网 www.51bdks.net 蜀ICP备2021000628号 川公网安备 51012202001360号