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正确答案:
A
化学增强
题目:在深紫外曝光中,需要使用CA光刻胶,CA的含义是()。
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学习资料的答案和解析:
[多选题]二氧化硅层中的钠离子可能来源于()。
玻璃器皿
高温器材
人体沾污
化学试剂
去离子水
[单选题]在VLSI工艺中,常用的前烘方法是()。
真空热平板传导法
[单选题]决定吸附原子彼此间能否形成一个稳定的核团,以便于进行凝结的主要因素主宰于所形成的核团是否()而定。
稳定
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下列可作为磷扩散源的是()。
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采用热氧化方法制备的二氧化硅从结构上看是()的。
对于浓度覆盖很宽的杂质原子,可以采用()方法引入到硅片中。
晶硅栅极刻蚀最大的挑战就是对二氧化硅的高选择性。超薄的()使
人类的职业道德真正形成于()。
下列物质的等离子体适合用以刻蚀铝合金中硅的有()。
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早期,研究离子注入技术是用()来进行的。
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