离子注入层的杂质浓度主要取决于离子注入的（）。

【名词&注释】

离子注入(ion implantation)、指数函数(exponential function)、水溶液(aqueous solution)、氢氟酸(hydrofluoric acid)、杂质浓度(impurity concentration)

[单选题]离子注入层的杂质浓度^{(impurity concentration)}主要取决于离子注入的（）。

A. 能量
B. 剂量

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学习资料：

[单选题]腐蚀二氧化硅的水溶液一般是用（）

A. A、盐酸
B. B、硫酸
C. C、硝酸
D. D、氢氟酸

[单选题]恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为什么分布？（）

A. A、高斯函数
B. B、余误差函数
C. C、指数函数
D. D、线性函数

[单选题]二氧化硅在扩散时能对杂质起掩蔽作用进行（）扩散。

A. 预
B. 再
C. 选择

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