在半导体器件制造中，对清洗用水的纯度有比较高的要求，要用经过

【名词&注释】

单晶硅(single crystal silicon)、去离子水(deionized water)、矿泉水(mineral water)、多晶硅(polysilicon)、金属材料(metal materials)、自来水(tap water)、热氧化(thermal oxidation)、氮化硅(silicon nitride)、蒸馏水(distilled water)、分析器(analyzer)

[单选题]在半导体器件制造中，对清洗用水的纯度有比较高的要求，要用经过纯化的（）作为清洁用水。

A. 蒸馏水^{(distilled water)}
B. 自来水
C. 去离子水
D. 矿泉水

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学习资料：

[单选题]采用热氧化^{(thermal oxidation)}方法制备的二氧化硅从结构上看是（）的。

A. 结晶形态
B. 非结晶形态
C. 可能是结晶形态的，也可能是非结晶形态的
D. 以上都不对

[单选题]分析器^(analyzer)是一种（）分选器。

A. 电子
B. 中子
C. 离子
D. 质子

[多选题]下列组合中哪一种基本上用于刻蚀前者的干刻蚀法大都可以用来刻蚀后者（）。

A. 二氧化硅氮化硅^{(silicon nitride)}
B. 多晶硅硅化金属
C. 单晶硅多晶硅
D. 铝铜
E. 铝硅

[多选题]为了满足半导体器件对金属材料的低电阻连接以及可靠的要求，金属材料应该满足（）。

A. 低电阻率
B. 易与p或n型硅形成欧姆接触
C. 可与硅或二氧化硅反应
D. 易于光刻
E. 便于进行键合

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