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微电子领域内,下列测厚仪中属于有台阶的测厚仪为()。

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    扫描电镜(sem)、测厚仪(thickness gauge)、微电子(microelectronics)、水蒸汽(steam)、氧化铬(chromium oxide)、干涉显微镜(interference microscope)、干氧氧化(dry oxidation)、之所以(the reason that)、速度慢(slow speed)

  • [多选题]微电子领域内,下列测厚仪中属于有台阶的测厚仪为()。

  • A. 台阶仪
    B. 干涉显微镜
    C. 光切显微镜
    D. 扫描电镜
    E. 椭偏仪

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  • 学习资料:
  • [单选题]干氧氧化(dry oxidation)法有一些优点,但同时它的缺点有()。
  • A. 生长出的二氧化硅中引入很多可动离子
    B. 氧化的速度慢(slow speed)
    C. 生长的二氧化硅缺陷多
    D. 生长的二氧化硅薄膜钝化效果差

  • [多选题]去正胶常用的溶剂有()
  • A. 丙酮
    B. 氢氧化钠溶液
    C. 丁酮
    D. 甲乙酮
    E. 热的氯化碳氢化合物

  • [单选题]金相学的研磨之所以(the reason that)会在研磨面上造成如刮伤般的痕迹是由于在制程中()。
  • A. 氧化铬磨料溶水制成的研磨液
    B. 使用羊毛研磨垫
    C. 采用旋转研磨垫加压的方法
    D. 无法必免的机械损耗

  • [多选题]空气污染物按照处理性质来分:有()。
  • A. 酸碱性气体
    B. 有机性气体
    C. 特殊毒性气体
    D. 水蒸汽
    E. 中性气体

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