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2022半导体芯片制造中级工题库冲刺密卷共用题干题正确答案(06.29)

来源： 必典考网    发布：2022-06-29     [手机版]    
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必典考网发布2022半导体芯片制造中级工题库冲刺密卷共用题干题正确答案(06.29)，更多半导体芯片制造中级工题库的答案解析请访问必典考网半导体芯片制造工题库频道。

1. [单选题]将预先制好的掩膜直接和涂有光致抗蚀剂的晶片表面接触，再用紫外光照射来进行曝光的方法，称为（）曝光。

A. 接触
B. 接近式
C. 投影


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